Istraživači sa KTH Royal Institute of Technology objavili su u časopisu Science Advances metod koji bi mogao premjestiti proizvodnju nanosenzora iz specijaliziranih laboratorija u obične poluvodičke tvornice. Tehnika, koju autori uspoređuju s izvlačenjem korijena stabla uz pomoć užeta, koristi ugrađeni mehanički stres za stvaranje nanorupa u tankim membranama. Za razliku od tradicionalnih postupaka koji pojedinačno buše rupe elektronskim snopom ili TEM‑skulpturom, novi pristup omogućuje paralelnu izradu velikih nizova rupa promjera od šest do deset nanometara. Proces započinje slojem na silicijskom waferu koji se pod napetošću rasteže, a ispod njega se uklanja drugi sloj sve dok ne ostane predodređeni oblik za nanorupu u trećem, senzorskom sloju. Metoda je uspješno testirana na dielektričnim, metalnim i poluvodičkim membranama, a proizvedene nanopore pokazale su se učinkovite u analizi DNA.