Inženjeri iz ASML-a i njegovog optičkog partnera Carl Zeiss opisali su u stručnom radu da bi nasljednik najnaprednijeg ASML-ovog stroja mogao biti operativan za otprilike deset godina. Novi uređaj, nazvan „Hyper NA“, mogao bi ispisivati strukture široke do 5 nanometara, što je za više od trećine manja rezolucija od trenutnog „High NA“ EUV alata.
Razvoj Hyper NA oslanja se na već postojeću tehnologiju, uključujući i svjetlosni izvor koji se može koristiti nepromijenjen, dok Zeiss već može proizvesti ogledala potrebna za takav sustav. Strojevi bi bili otprilike veličine dvokatnog autobusa, slično kao postojeći High NA sustavi, a njihova izgradnja još nije službeno potvrđena od ASML-a.
Autori rada napominju da bi budući sustavi vjerojatno trebali koristiti kraću valnu duljinu svjetlosti, što ostaje predmet akademskih istraživanja.
